1樓：匿名使用者
pvd技術全稱：物理氣象沉積技術。pvd技術原理：
在鍍鉻的基礎上，利用高溫高壓蒸發振動使表面塗層材料激發形成離子流，並與鉻鍍層離子緊密結合，然後再在龍頭表面沉積而成。pvd工作效能：更耐腐蝕，耐刮擦。
變面富有光澤，持久彌新。顏色及質地富有變化，使浴室極富個性，彰顯主人品位和高貴。與普通鍍鉻的區別：
在鍍鉻基礎上再鍍上和鉻具同樣耐久性的金屬，比鍍鉻更耐腐蝕、防刮擦。加入了其他金屬元素，顏色效果更多樣。多靈特有的「手工拉絲」技術，使pvd鍍層更富有變化，富有質感。
文字的敘述，可能給您感覺並不明顯，下面我們看以下2張對比圖，就能很清晰的看出區別來：
2樓：匿名使用者
pvd(physical vapor deposition):物理氣相沉積，是指在真空條件下，採用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發並使被蒸發物質與氣體都發生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發物質及其反應產物沉積在工件上。
一般用來表面改性或鍍塗層。
3樓：匿名使用者
金屬表面的一層鍍層，pvd表示金色的。
4樓：匿名使用者
pvd技術就是一種電鍍的工藝，我們用的很多東西，比如門鎖，衛浴或者廚房的五金產品，只要是金屬的，一般表面都會有一層鍍層。差的電鍍就鍍很薄的幾層，非常容易脫落或者氧化，而好的電鍍工藝，比如pvd，會鍍很多層，鍍的時間也很有講究，有些專業的廠商經過電鍍後還會很負責任的拿去做鹽霧測試，而能夠通過這個測試的產品一般都是符合國家標準甚至是歐標或者美標的了，是很好的產品。
5樓：迮**犁碧
簡單來說，pvd就是一種鍍層工藝，是目前最高階別的鍍層工藝，多半用於金屬塗層。pvd工藝非常複雜，成本高昂，只有有一定溢價能力和附加值的產品才會使用pvd工藝，因為pvd鍍層會非常穩定、耐刮防腐蝕，20年都不會褪色，經常使用於高階產品上，是實力和品牌的綜合體現，所以缺點就是**昂貴，一般的產品根本不會使用如此昂貴的工藝。如果門鎖能使用pvd工藝的話，拋開品牌因素的話，一把門鎖的成本基本在300-400元左右，低於這個價位的，基本都不是正宗pvd工藝（偷工減料），200以內是絕不可能做到pvd的，請樓主擦亮眼睛。
什麼是pvd
6樓：窮的沒襪子
pvd是英文physical vapor deposition的縮寫,中文意思是「物理氣相沉積」,是指在真空條件下,用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜製備技術。 2. pvd鍍膜和pvd鍍膜機 — pvd(物理氣相沉積)鍍膜技術主要分為三類, (有離子鍍、磁控濺射鍍、蒸發鍍)
真空蒸鍍法是在高度真空條件下加熱金屬，使其熔融、蒸發，冷卻後在塑料表面形成金屬薄膜的方法。常用的金屬是鋁等低熔點金屬。
加熱金屬的方法：有利用電阻產生的熱能，也有利用電子束的。
在對塑料製品實施蒸鍍時，為了確保金屬冷卻時所散發出的熱量不使樹脂變形，必須對蒸鍍時間進行調整。此外，熔點、沸點太高的金屬或合金不適合於蒸鍍。
置待鍍金屬和被鍍塑料製品於真空室內，採用一定方法加熱待鍍材料，使金屬蒸發或昇華，金屬蒸汽遇到冷的塑料製品表面凝聚成金屬薄膜。
在真空條件下可減少蒸發材料的原子、分子在飛向塑料製品過程中和其他分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發源材料間的化學反應（如氧化等），從而提供膜層的緻密度、純度、沉積速率和與附著力。通常真空蒸鍍要求成膜室內壓力等於或低於10-2pa，對於蒸發源與被鍍製品和薄膜質量要求很高的場合，則要求壓力更低（ 10-5pa ）。
鍍層厚度0.04-0.1um,太薄，反射率低；太厚，附著力差，易脫落。厚度0.04時反射率為90%
7樓：c白菜
pvd(physical vapor deposition)，指利用物理過程實現物質轉移，將原子或分子由源轉移到基材表面上的過程。它的作用是可以是某些有特殊效能（強度高、耐磨性、散熱性、耐腐性等）的微粒噴塗在效能較低的母體上，使得母體具有更好的效能！ pvd基本方法：
真空蒸發、濺射 、離子鍍（空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍）
來自百科
什麼是pvd電鍍
8樓：
vd簡介
pvd是英文physical vapor deposition（物理氣相沉積）的縮寫，是指在真空條件下，採用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發並使被蒸發物質與氣體都發生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發物質及其反應產物沉積在工件上。
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pvd技術的發展
pvd技術出現於二十世紀七十年代末，製備的薄膜具有高硬度、低摩擦係數、很好的耐磨性和化學穩定性等優點。最初在高速鋼刀具領域的成功應用引起了世界各國製造業的高度重視，人們在開發高效能、高可靠性塗層裝置的同時，也在硬質合金、陶瓷類刀具中進行了更加深入的塗層應用研究。與 cvd工藝相比，pvd工藝處理溫度低，在600℃以下時對刀具材料的抗彎強度無影響；薄膜內部應力狀態為壓應力，更適於對硬質合金精密複雜刀具的塗層； pvd工藝對環境無不利影響，符合現代綠色製造的發展方向。
目前pvd塗層技術已普遍應用於硬質合金立銑刀、鑽頭、階梯鑽、油孔鑽、鉸刀、絲錐、可轉位銑刀片、異形刀具、焊接刀具等的塗層處理。
pvd技術不僅提高了薄膜與刀具基體材料的結合強度，塗層成分也由第一代的tin發展為tic、ti**、zrn、crn、mos2、tialn、tial**、tin-aln、**x、dlc和ta－c等多元複合塗層。
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塗層的pvd技術
增強型磁控陰極弧：陰極弧技術是在真空條件下，通過低電壓和高電流將靶材離化成離子狀態，從而完成薄膜材料的沉積。增強型磁控陰極弧利用電磁場的共同作用，將靶材表面的電弧加以有效地控制，使材料的離化率更高，薄膜效能更加優異。
過濾陰極弧：過濾陰極電弧(fca )配有高效的電磁過濾系統，可將離子源產生的等離子體中的巨集觀粒子、離子團過濾乾淨，經過磁過濾後沉積粒子的離化率為100%，並且可以過濾掉大顆粒， 因此製備的薄膜非常緻密和平整光滑，具有抗腐蝕效能好，與機體的結合力很強。
磁控濺射：在真空環境下，通過電壓和磁場的共同作用，以被離化的惰性氣體離子對靶材進行轟擊，致使靶材以離子、原子或分子的形式被彈出並沉積在基件上形成薄膜。根據使用的電離電源的不同，導體和非導體材料均可作為靶材被濺射。
離子束dlc：碳氫氣體在離子源中被離化成等離子體，在電磁場的共同作用下，離子源釋放出碳離子。離子束能量通過調整加在等離子體上的電壓來控制。
碳氫離子束被引到基片上，沉積速度與離子電流密度成正比。星弧塗層的離子束源採用高電壓，因而離子能量更大，使得薄膜與基片結合力很好；離子電流更大，使得dlc膜的沉積速度更快。離子束技術的主要優點在於可沉積超薄及多層結構，工藝控制精度可達幾個埃，並可將工藝過程中的顆料汙染所帶來的缺陷降至最小。
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補充物理氣向沉積技術 * pvd 介紹 物理氣相沉積具有金屬汽化的特點，
與不同的氣體發應形成一種薄膜塗層。今天所使用的大多數 pvd 方法是電弧和濺射沉積塗層。這兩種過程需要在高度真空條件下進行。
ionbond 陰極電弧 pvd 塗層技術在 20 世紀 70 年代後期由前蘇聯發明，如今，絕大多數的刀模具塗層使用電弧沉積技術。
工藝溫度
典型的 pvd 塗層加工溫度在 250 ℃— 450 ℃之間，但在有些情況下依據應用領域和塗層的質量， pvd 塗層溫度可低於 70 ℃或高於 600 ℃進行塗層。
塗層適用的典型零件
pvd 適合對絕大多數刀具模具和部件進行沉積塗層，應用領域包括刀具和成型模具，耐磨部件，醫療裝置和裝飾產品。
材料包括鋼質，硬質合金和經電鍍的塑料。
典型塗層型別
塗層型別有 tin, altin,tialn,crn,cr**,ti** 和 zrn, 複合塗層包括 tialyn 或 w — c ： h/dlc
塗層厚度一般 2~5um ，但在有些情況下，塗層薄至 0.5um , 厚至 15um裝載容量。
塗層種類和厚度決定工藝時間，一般工藝時間為 3~6 小時。
加工過程優點
適合多種材質，塗層多樣化
減少工藝時間，提高生產率
較低的塗層溫度，零件尺寸變形小
對工藝環境無汙染
9樓：盜王之盜
pvd電鍍是指在真空條件下，採用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發並使被蒸發物質與氣體都發生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發物質及其反應產物沉積在工件上。
pvd技術出現於二十世紀七十年代末，製備的薄膜具有高硬度、低摩擦係數、很好的耐磨性和化學穩定性等優點。最初在高速鋼刀具領域的成功應用引起了世界各國製造業的高度重視，人們在開發高效能、高可靠性塗層裝置的同時，也在硬質合金、陶瓷類刀具中進行了更加深入的塗層應用研究。與 cvd工藝相比，pvd工藝處理溫度低，在600℃以下時對刀具材料的抗彎強度無影響；薄膜內部應力狀態為壓應力，更適於對硬質合金精密複雜刀具的塗層； pvd工藝對環境無不利影響，符合現代綠色製造的發展方向。
目前pvd塗層技術已普遍應用於硬質合金立銑刀、鑽頭、階梯鑽、油孔鑽、鉸刀、絲錐、可轉位銑刀片、異形刀具、焊接刀具等的塗層處理。
pvd技術不僅提高了薄膜與刀具基體材料的結合強度，塗層成分也由第一代的tin發展為tic、ti**、zrn、crn、mos2、tialn、tial**、tin-aln、**x、dlc和ta－c等多元複合塗層。
增強型磁控陰極弧：陰極弧技術是在真空條件下，通過低電壓和高電流將靶材離化成離子狀態，從而完成薄膜材料的沉積。增強型磁控陰極弧利用電磁場的共同作用，將靶材表面的電弧加以有效地控制，使材料的離化率更高，薄膜效能更加優異。
過濾陰極弧：過濾陰極電弧(fca )配有高效的電磁過濾系統，可將離子源產生的等離子體中的巨集觀粒子、離子團過濾乾淨，經過磁過濾後沉積粒子的離化率為100%，並且可以過濾掉大顆粒， 因此製備的薄膜非常緻密和平整光滑，具有抗腐蝕效能好，與機體的結合力很強。
磁控濺射：在真空環境下，通過電壓和磁場的共同作用，以被離化的惰性氣體離子對靶材進行轟擊，致使靶材以離子、原子或分子的形式被彈出並沉積在基件上形成薄膜。根據使用的電離電源的不同，導體和非導體材料均可作為靶材被濺射。
離子束dlc：碳氫氣體在離子源中被離化成等離子體，在電磁場的共同作用下，離子源釋放出碳離子。離子束能量通過調整加在等離子體上的電壓來控制。
碳氫離子束被引到基片上，沉積速度與離子電流密度成正比。星弧塗層的離子束源採用高電壓，因而離子能量更大，使得薄膜與基片結合力很好；離子電流更大，使得dlc膜的沉積速度更快。離子束技術的主要優點在於可沉積超薄及多層結構，工藝控制精度可達幾個埃，並可將工藝過程中的顆料汙染所帶來的缺陷降至最小。
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