常用的掩蔽干擾離子的辦法有哪些,配位滴定常用掩蔽方法有哪些

2021-08-08 04:08:44 字數 1223 閱讀 6155

1樓:酒才

配位掩蔽法、沉澱掩蔽法和氧化還原掩蔽法.配位掩蔽法,當溶液中存在其他金屬離子n時,由於n與y發生副反應,降低了條件穩定常數,給m離子滴定帶來誤差。加上n離子還可能對指示劑有封閉作用。

這時可採用配位掩蔽法,就是通過加入掩蔽劑,使掩蔽劑與干擾離子形成穩定配合物,降低溶液中游離n的濃度,從而減小,增大而使m可以單獨滴定。沉澱掩蔽法,就是加入沉澱劑,使干擾離子產生沉澱而降低n離子濃度。如在強鹼溶液中用edta滴定ca(有mg干擾),強鹼與mg形成mg(oh)↓,這樣mg就不干擾ca的測定。

氧化還原掩蔽法,就是利用氧化還原反應改變干擾離子的價態以消除干擾。例如fe是一強的封閉劑,加入還原劑使溶液中fe還原成fe,可達到掩蔽作用。在實際應用中最常用的還是配位掩蔽法。

氧化還原掩蔽法是指在edta滴定過程中加入氧化劑或還原劑,改變干擾離子價態以消除干擾的方式。   例如:   bi3+ 和 fe3+ 共存時,測定bi3+ 時fe3+ 有干擾,可加抗壞血酸(維生素c)將fe3+ 還原為fe2+ ,大大降低了鐵離子和edta配合物的穩定性,從而消除fe3+ 對bi3+ 測定的干擾。

2樓:匿名使用者

用來對抗通訊或雷達執行的任何干擾的系統或技術 。

配位滴定常用掩蔽方法有哪些

3樓:匿名使用者

配位掩蔽法

bai、沉澱掩蔽du法和氧化還原掩蔽法zhi.

配位掩蔽法,當溶液中存在dao其他金專屬離子n時,由於n與y發生副反應屬,降低了條件穩定常數,給m離子滴定帶來誤差。加上n離子還可能對指示劑有封閉作用。這時可採用配位掩蔽法,就是通過加入掩蔽劑,使掩蔽劑與干擾離子形成穩定配合物,降低溶液中游離n的濃度,從而減小,增大而使m可以單獨滴定。

沉澱掩蔽法,就是加入沉澱劑,使干擾離子產生沉澱而降低n離子濃度。如在強鹼溶液中用edta滴定ca(有mg干擾),強鹼與mg形成mg(oh)↓,這樣mg就不干擾ca的測定。氧化還原掩蔽法,就是利用氧化還原反應改變干擾離子的價態以消除干擾。

例如fe是一強的封閉劑,加入還原劑使溶液中fe還原成fe,可達到掩蔽作用。在實際應用中最常用的還是配位掩蔽法。

氧化還原掩蔽法是指在edta滴定過程中加入氧化劑或還原劑,改變干擾離子價態以消除干擾的方式。   例如:   bi3+ 和 fe3+ 共存時,測定bi3+ 時fe3+ 有干擾,可加抗壞血酸(維生素c)將fe3+ 還原為fe2+ ,大大降低了鐵離子和edta配合物的穩定性,從而消除fe3+ 對bi3+ 測定的干擾。

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